《表3 各像差项对相对差异RMS的贡献度》

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《面向精密制造的光学自由曲面在位偏折测量技术》

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被测中央通孔抛物面镜的面形经过4次迭代计算获得，减去拟合的理想抛物面后，去除与面形位置有关的Zernike前四项（分别代表平移、xy倾斜以及离焦），与干涉仪结果作对比，如图16所示。相对于干涉测量结果，在位单目子孔径测量差异的RMS为139.85 nm，PV为682.89 nm。使用低阶Zernike多项式（Z5到Z11）分析各项的贡献，列于表3中。可见由测量系统离轴配置而引起的像散贡献最大[18]。实验证明，本文提出的在位偏折测量能够实现中空离轴抛物面镜的非零位快速测量，提高了测量效率。