《表3 不同Si原子分数的Zr Si N薄膜在25°C和650°C时的平均磨损率Table 3 Average wear rates of Zr Si N thin films with differ

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《磁控溅射ZrSiN薄膜的微观结构表征及其力学与摩擦学性能研究》

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由表3可知，在室温下，随着Si含量增大，薄膜的磨损率逐渐减小。当Si的原子分数超过7.04%时，薄膜的显微硬度逐渐增加，令薄膜不易剪切变形，形成组织裂纹，从而使磨损率下降。而在650°C的条件下，随着Si含量增加，薄膜的磨损率也大致呈下降的趋势。当薄膜Si含量相同时，其高温下的磨损率更大。这是由于温度升高导致薄膜的致密性下降，结构变得疏松，硬度降低，摩擦副接触面积变大。此外，高温下生成的氧化物会产生粘着磨损，从而加剧磨损。