《表4 海外背景独立董事对企业创新的回归结果》
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《海外背景独立董事对企业创新的影响——基于珠三角上市公司数据的实证研究》
注:小括号内为稳健标准误,*、**、***分别表示在10%、5%、1%水平上显著,L.表示滞后一期。
表4表示海外背景独立董事对发明专利申请量的回归结果,(1)表示海外背景独立董事哑变量对发明专利申请量的回归结果,(2)表示海外背景独立董事总量对发明专利申请量的回归结果,(3)表示表示海外背景独立董事比例对发明专利申请量的回归结果。由(1)可知,海外背景独立董事哑变量对发明专利申请量的系数为0.100,回归结果不显著;由(2)可知,海外背景类独立董事总量的系数为0.167,在10%的水平上显著,由(3)可发现,海外背景类独立董事比例的系数为0.336,在10%的水平上显著。由此,我们可以得知,海外背景独立董事总量越高,对企业发明专利申请量的正向促进作用越强;海外背景独立董事比例越高,促进作用越强。
图表编号 | XD00119318800 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.12.25 |
作者 | 刘琪 |
绘制单位 | 上海理工大学 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |