《表6 Gaussian RBF-BS型自由曲面头戴显示系统公差分配》
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《基于面形斜率的高斯径向基自由曲面优化设计及公差分析》
由蒙特卡洛公差分析结果可以看出,对于298项基函数的Gaussian RBF-BS型自由曲面,表面面形公差较松,系统像质下降不明显。为了降低自由曲面的加工难度,将Gaussian RBF-BS的面形公差定为0.9λ。随后对Gaussian RBF-BS头戴显示器系统中的表面位置公差(该系统为反射系统,可忽略材料公差),结合面形公差分配的特点和以往头戴显示系统的设计经验,具体的各项公差分配如表6所示。
图表编号 | XD00117508300 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.12.01 |
作者 | 赵星、肖流长、张赞、王灵杰、张效栋 |
绘制单位 | 南开大学现代光学研究所、天津市光电传感器与传感网络技术重点实验室、南开大学现代光学研究所、南开大学现代光学研究所、中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术中国科学院重点实验室、天津大学精密测试技术及仪器国家重点实验室天津微纳制造工程技术中心 |
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