《表2 局部优化视场对应的基函数位置》
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《基于面形斜率的高斯径向基自由曲面优化设计及公差分析》
从图3可以看出,被黑线覆盖的视场波像差明显大于其他视场,这意味着这些视场的残留波像差较大,需要作为优化重点。根据局部优化流程图,对残留波像差较大的视场,采用光线追迹的方法找到与之对应的基函数位置,基函数的位置坐标如表2所示。然后,提高这些基函数的形状因子和系数的优化权重,再进行局部优化。最终的光学系统结构图如图4所示,光学系统不同视场的MTF曲线和中心视场畸变分别如图5和图6所示。
图表编号 | XD00117507700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.12.01 |
作者 | 赵星、肖流长、张赞、王灵杰、张效栋 |
绘制单位 | 南开大学现代光学研究所、天津市光电传感器与传感网络技术重点实验室、南开大学现代光学研究所、南开大学现代光学研究所、中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术中国科学院重点实验室、天津大学精密测试技术及仪器国家重点实验室天津微纳制造工程技术中心 |
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