《表2 不同喷流速度下锥面平均过饱和度及均方差Table 2 Averaged supersaturation and standard deviation of pyramidal face und

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《喷流转晶法KDP晶体生长系统的流动与传质模拟》

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表2为不同喷流速度下的锥面过饱和度。由表2可以看出，均方差随着喷流速度的增大呈现先减小后增大的趋势，在转速为10r/min、晶体尺寸为30cm时，均方差最小值出现在喷流速度为0.2m/s，但考虑到增大喷流速度其标准差变化不大，而平均过饱和度增大较为明显，所以为了提高生长速度，可以适当增大喷流速度。图6为沿Pyline线的过饱和度的变化。从图6中可以看到，随着喷流速度的增大，作用的区域也逐渐增大，而锥面低过饱和度区域也向锥面和柱面相交的棱边方向移动。