《表3 不同旋转速度下锥面平均过饱和度及均方差Table 3 Averaged supersaturation and standard deviation of pyramidal face und

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《喷流转晶法KDP晶体生长系统的流动与传质模拟》

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图7是喷流速度为0.3m/s、晶体尺寸为30cm时，不同转速下晶面的时均过饱和度云图。从图7中可以看出，随着旋转速度的增加，晶体所有面的过饱和度都增大，尤其是棱边附近。表3为图7中的面过饱和度的具体数值及其均方差。由表3可以看出，过饱和度的均方差随着旋转速度的增加逐渐减小，旋转速度从5r/min增加至10r/min的过程中均方差减小较为明显。虽然进一步增加旋转速度可以稍微减小均方差和增大平均过饱和度，但是晶体旋转速度越快，周围流体加速就越快，表面剪切力减小就越快，剪切力的急剧变化不利于晶体表面形貌稳定。