《近代光学制造技术》求取 ⇩

第一章 非球面光学零件的数控加工技术1

1．1 概述1

1．2 数控研磨和抛光技术3

1．2．1 小型非球面的计算机控制研磨加工3

1．2．2 非球面的计算机控制抛光8

1．3 金刚石车削加工技术26

1．3．1 概述26

1．3．2 金刚石车削加工工艺27

1．3．3 典型的加工机床37

1．3．4 可用金刚石刀具车削的材料40

1．3．5 非电解镍光学表面的金刚石车削41

1．3．6 光学塑料的金刚石车削43

1．4 离子束抛光技术46

1．4．1 离子束抛光原理46

1．4．2 工艺因素的影响48

1．4．3 离子抛光的效果53

1．4．4 离子抛光机的结构55

1．4．5 离子抛光非球面零件的工艺过程57

1．4．6 加工实例58

参考文献59

第二章 光学零件精密模压成型技术61

2．1 光学塑料零件的模压成型技术61

2．1．1 概述61

2．1．2 光学塑料的主要物理特性65

2．1．3 注射成型光学塑料零件的质量70

2．1．4 光学塑料注射成型的模具71

2．1．5 注射过程73

2．1．6 光学塑料零件表面的镀膜74

2．2 光学玻璃的模压成型技术75

2．2．1 概述75

2．2．3 基本工艺过程77

2．2．2 模压成型玻璃零件的质量77

2．2．4 压型工艺条件78

2．2．5 模压成型用的模具79

2．2．6 模压成型的设备81

2．3 溶胶-疑胶法玻璃的成型技术82

2．3．1 用溶胶-凝胶法制造玻璃82

2．3．2 零件的成型和高温处理84

参考文献86

第三章 超光滑表面加工技术87

3．1 超光滑表面的加工机理88

3．2 水中抛光91

3．2．1 特点91

3．2．2 水中抛光装置92

3．2．3 抛光工艺93

3．3 浮法抛光94

3．4 用微弹性破坏方法进行超精加工95

3．5 超光滑表面粗糙度的测量97

3．5．1 接触式测量97

3．5．2 非接触式测量98

参考文献106

第四章 全息工艺技术107

4．1 引言107

4．2 干涉全息图的制造工107

4．2．1 全息图的工艺技术条件107

4．2．2 全息记录装置109

4．2．3 全息记录材料111

4．2．4 全息图的记录方法112

4．2．5 白光全息图118

4．2．6 全息透镜的制造及像差校正127

4．3．1 全息图和全息光栅的复制技术综述136

4．3 全息图和全息光栅的模压生产技术136

4．3．2 浮雕全息图的记录139

4．3．3 螺纹光栅装饰材料的原版制造工艺140

4．3．4 金属模板的电铸工艺144

4．3．5 模压技术151

4．4 计算机全息图和二元光学元件制造技术153

4．4．1 概述153

4．4．2 计算机全息图的制作和再现过程153

4．4．3 用迂回位相法编码的计算机全息图156

4．4．4 计算机全息干涉图159

4．4．5 二元光学元件160

参考文献169

第五章 梯度折射率光学元件170

5．1 概述170

5．1．1 发展简史170

5．1．3 梯度折射率的类型和应用171

5．1．2 梯度折射率(GRIN)的表述171

5．2 离子交换原理175

5．2．1 离子交换与玻璃结构175

5．2．2 离子交换反应176

5．2．3 扩散方程及其解179

5．3 GRIN玻璃及其折射率计算184

5．3．1 GRIN玻璃184

5．3．2 折射率与浓度关系186

5．3．3 离子交换对191

5．4 GRIN棒透镜194

5．4．1 工艺流程194

5．4．2 离子交换时间的确定197

5．4．3 折射率分布控制198

5．5 GRIN微透镜阵列204

5．5．1 有掩模无外场条件下扩散方程及其解205

5．5．2 有掩模电场辅助离子交换扩散方程及其解207

5．5．3 电场辅助离子交换制作平面微透镜阵列210

5．6 用溶胶-凝胶法制造GRIN材料213

5．6．1 溶胶-凝胶法的优缺点213

5．6．2 制作工艺214

5．6．3 现有样品的玻璃成分和特性216

5．7 用共聚法制造高分子GRIN材料218

5．7．1 高分子材料及其性能218

5．7．2 扩散共聚法218

5．7．3 悬浮共聚法221

参考文献222

第六章 光波导器件制作225

6．1 光波导概述225

6．2．1 电子束扫描制作光刻掩模板227

6．2 图形的生成与转移227

6．2．2 光刻229

6．2．3 光栅制作229

6．3 薄膜沉积技术231

6．3．1 真空蒸发镀膜232

6．3．2 离子镀膜232

6．3．3 离子溅射镀膜233

6．4 刻蚀技术234

6．4．1 湿法化学刻蚀234

6．4．2 离子束溅射刻蚀237

6．4．3 几种干法刻蚀技术比较240

6．5 表面改性技术244

6．5．1 扩散244

6．5．2 质子交换252

6．5．3 离子交换254

参考文献258