《硅材料质量与硅器件工艺》
| 作者 | 上海科学技术文献出版社编 编者 |
|---|---|
| 出版 | 上海：上海科学技术文献出版社 |
| 参考页数 | 171 |
| 出版时间 | 1979（求助前请核对） 目录预览 |
| ISBN号 | 15192·23 — 求助条款 |
| PDF编号 | 87465608（仅供预览，未存储实际文件） |
| 求助格式 | 扫描PDF（若分多册发行，每次仅能受理1册） |
目录1
1．国外半导体硅单晶及其质量 上海有色金属研究所 夏锦禄1
2．硅晶片的切磨抛工艺 中国科学院上海冶金研究所 王自筠12
3．硅烷外延 复旦大学 张冠生23
4．诱生缺陷与硅器件性能 中国科学院上海冶金研究所 杨传铮 田佩兰34
5．杂质吸收效应 上海半导体器件研究所 王儒全72
6．硅－二氧化硅界面态 复旦大学 王迅82
7．硅材料测试方法的几点改进 上海科学技术大学 曹泽淳92
8．汞探针容－压法硅外延测试 上海元件五厂、复旦大学 包宗明98
9．汞探针C-V测试在硅外延生产及元件工艺中的作用 上海元件五厂、复旦大学 包宗明104
10．扩展电阻法的基本原理及其应用 复旦大学 张敬海111
11．X射线貌相术及其在半导体材料和器件中的应用 中国科学院上海冶金研究所 杨传铮125
1979《硅材料质量与硅器件工艺》由于是年代较久的资料都绝版了，几乎不可能购买到实物。如果大家为了学习确实需要，可向博主求助其电子版PDF文件（由上海科学技术文献出版社编 1979 上海：上海科学技术文献出版社 出版的版本） 。对合法合规的求助，我会当即受理并将下载地址发送给你。
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