《半导体器件译丛 3 总第13期》求取 ⇩

(1)用准静态方法表征Si—SiO2界面处的表面态1

(2)放射性示踪技术研究半导体表面沾污(Ⅰ)9

(3)放射性示踪技术研究半导体表面沾污(Ⅱ)16

(4)具有几个分立基区的高频功率晶体管发明的基本情况28

(5)改善反向偏压二次击穿特性的高频功率晶体管36

(6)抗二次击穿的半导体器件40

(7)P—N结器件和集成电路中载流子寿命的定域控制46

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