《半导体器件表面钝化技术文摘 （上册）》求取 ⇩
| 作者 | 电子工业部半导体专业情报网编 编者 |
|---|---|
| 出版 | 电子工业部半导体专业情报网 |
| 参考页数 | 202 ✅ 真实服务 非骗流量 ❤️ |
| 出版时间 | 1983（求助前请核对） 目录预览 |
| ISBN号 | 无 — 违规投诉 / 求助条款 |
| PDF编号 | 84343388（学习资料 勿作它用） |
| 求助格式 | 扫描PDF（若分多册发行，每次仅能受理1册） |
表面钝化技术概述1
工艺及设备1
化学气相淀积（CVD）法22
低压化学气相淀积59
等离子体技术73
溅射法99
辉光放电法121
阳极氧化法124
其它（涂敷工艺放此类）132
介质膜1
二氧化硅（S1O2）膜12
氮化硅（S13N4）膜49
氧化铝（A12O3）膜95
磷硅玻璃109
多晶硅及无定形硅121
其它135
介质膜测量技术1
1983《半导体器件表面钝化技术文摘 （上册）》由于是年代较久的资料都绝版了，几乎不可能购买到实物。如果大家为了学习确实需要，可向博主求助其电子版PDF文件（由电子工业部半导体专业情报网编 1983 电子工业部半导体专业情报网 出版的版本） 。对合法合规的求助，我会当即受理并将下载地址发送给你。
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