《半导体表面钝化 专题文摘》
| 作者 | 中国科学技术情报研究所重庆分所编辑 编者 |
|---|---|
| 出版 | 北京：科学技术文献出版社；重庆分社 |
| 参考页数 | 61 |
| 出版时间 | 1978（求助前请核对） 目录预览 |
| ISBN号 | 15176·320 — 求助条款 |
| PDF编号 | 89423358（仅供预览，未存储实际文件） |
| 求助格式 | 扫描PDF（若分多册发行，每次仅能受理1册） |
一、述评和文献目录1
二、钝化1
目录1
三、钝化机理5
四、制备方法14
1．化学汽相淀积（CVD）14
2．热氧化24
3．溅射和蒸发27
5．阳极氧化29
5．磷硅玻璃31
6．其他方法35
1．电学性质38
五、特性38
2．表面态42
3．界面性质47
4．辐射效应51
5．C-V和Ⅰ-V特性52
6．其它性质54
六、测量55
1．电参数55
2．结构和缺陷57
3．厚度58
4．沾污和杂质58
5．应力61
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高度相关资料
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- 半导体文摘 1983年度主题索引
- 1985 北京：科学技术文献出版社；重庆分社
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- 相对论电动力学
- 1990 成都：电子科技大学出版社
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- 半导体器件表面钝化 译文集
- 1978 上海无线电二十九厂
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- 半导体表面与界面物理
- 1995 武汉：华中理工大学出版社
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- 半导体表面钝化技术及其应用
- 1981 北京：国防工业出版社
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- 半导体表面钝化会议资料汇编
- 1974 第四机械工业部情报所
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- 金属表面处理专利文摘
- 1980 上海：上海科学技术文献出版社
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- 半导体
- 1963 上海：上海科学技术出版社
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- 固体表面化学
- 1966 上海：上海科学技术出版社
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- 半导体
- 1966 北京：科学出版社
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- 半导体化学
- 1983 上海：上海科学技术文献出版社
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