《半导体表面钝化专题文摘》求取 ⇩

作者	中国科学技术情报研究所重庆分所编辑编者
出版	北京：科学技术文献出版社；重庆分社
参考页数	61 ✅ 真实服务非骗流量 ❤️
出版时间	1978（求助前请核对）目录预览
ISBN号	15176·320 — 违规投诉 / 求助条款
PDF编号	89423358（学习资料勿作它用）
求助格式	扫描PDF（若分多册发行，每次仅能受理1册）

半导体表面钝化专题文摘 1978 PDF电子版封面 15176·320 中国科学技术情报研究所重庆分所编辑

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一、述评和文献目录1

二、钝化1

目录1

三、钝化机理5

四、制备方法14

1．化学汽相淀积（CVD）14

2．热氧化24

3．溅射和蒸发27

5．阳极氧化29

5．磷硅玻璃31

6．其他方法35

1．电学性质38

五、特性38

2．表面态42

3．界面性质47

4．辐射效应51

5．C-V和Ⅰ-V特性52

6．其它性质54

六、测量55

1．电参数55

2．结构和缺陷57

3．厚度58

4．沾污和杂质58

5．应力61

1978《半导体表面钝化专题文摘》由于是年代较久的资料都绝版了，几乎不可能购买到实物。如果大家为了学习确实需要，可向博主求助其电子版PDF文件（由中国科学技术情报研究所重庆分所编辑 1978 北京：科学技术文献出版社；重庆分社出版的版本）。对合法合规的求助，我会当即受理并将下载地址发送给你。

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