《表3 线性及二次拟合方式及其对应拟合效果》

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《基于田口法对无边框液晶模组L0漏光改善研究》

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考虑不同程度L0漏光比率及可接受程度，分别选取漏光程度为Level 1、Level 2和Level 3的无边框模组各30片测试漏光处翘曲度。数据汇总如图4所示Level 1L0漏光程度下对应翘曲1.8～2.1μm；Level 2L0漏光程度下对应翘曲4.3～6.3μm；Level 3L0漏光程度下对应翘曲5.7～8.0μm。其中，Level 2和Level 3对应翘曲度有部分重叠。将L0漏光程度Level 1、Level 2和Level 3分别记为1，2，3，并在Jump 14上将其标识为连续型数据。将已设置为连续型数据的L0漏光水平与对应面板翘曲进行线性拟合，拟合效果如图4虚线段及表3所示：线性拟合时R2=0.78，说明线性拟合对变异解释能力不够（统计上一般要求R2>0.80，其值越大说明模型对变异的解释能力越充分），失拟P<0.01，说明该模型还存在失拟情况，需要考虑二次拟合。二次拟合后R2=0.83，拟合能力满足要求。从图4二次拟合曲线可以看出，L0漏光先随翘曲度增加而显著增加，当翘曲大于6μm时，L0漏光程度则呈现缓慢增加，且不同漏光程度对应翘曲存在交叠。因此，考虑Level 4因比例低而难以挑选样本（参考表2），同时结合这一变化趋势，分别选取L1及L3对应翘曲1.8～2.1μm及6.4～8.0μm作为噪声因子的高、低水平。