《表5 ITO成膜温度变更实验结果》
随着制备温度的升高,ITO薄膜的表面粗糙度先降低后上升。低温成膜时的晶粒细小,孔洞较多,容易在外力下产生破损或脱落;高温成膜时的晶粒粗大,膜面更为致密,晶粒之间不易分离。相对于低温成膜,高温成膜工艺的ITO由于致密度提升,硬度也相应提升[9],不容易受到毛刷的损伤。我们通过将TN产品的ITO成膜温度由120℃/120℃变更为150℃/150℃来提升ITO成膜致密度。实验结果如表5所示。可见在高温成膜的样品不易出现裂缝,使OC析出气体进入显示屏内形成气泡。
图表编号 | XD0080529100 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.07.01 |
作者 | 王超、徐习亮、姚之晓、朱东艳、王健 |
绘制单位 | 北京京东方显示技术有限公司、北京京东方显示技术有限公司、北京京东方显示技术有限公司、北京京东方显示技术有限公司、北京京东方显示技术有限公司 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |