《表1 样品的XRD图谱分析》
从图1中可以看出,制备的纯g-C3N4在13.06°和27.68°处有两个明显的特征衍射峰,与其标准PDF卡片(JCPDS 87-1526)一致。其中13.06°处的衍射峰为melon类物质的特征峰,对应3-S三嗪结构中氮孔之间的距离,晶面指数标记为(100);位于27.68°处的衍射峰为芳香物的层间堆积特征峰,对应于产物具有类石墨相的层状结构,晶面指数标记为(002),这些均与文献中的报道一致[15]。对比发现,制备的掺杂样品与纯g-C3N4在(002)晶面衍射峰的位置基本一致,说明掺硼后样品的晶体结构基本没有改变,仍然为类石墨相层状结构,后面TEM结果也说明了这一点。同时发现,硼含量越高,掺杂样品在(100)和(002)晶面处衍射峰的强度越弱,说明硼的引入会抑制g-C3N4的晶粒生长,与表1中掺杂样品的(002)面法向晶粒尺寸均小于g-C3N4的结果一致。
图表编号 | XD0064644800 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.06.01 |
作者 | 马元功、郭小峰、吴启凡、王宏波、向前、柴坝 |
绘制单位 | 重庆交通大学材料科学与工程学院、重庆交通大学材料科学与工程学院、重庆交通大学材料科学与工程学院、重庆交通大学材料科学与工程学院、重庆交通大学材料科学与工程学院、重庆交通大学材料科学与工程学院 |
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