《表5 制备结果与设计结构的差异对比表》

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《薄膜微结构的近红外透射诱导增强特性》

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SiNx薄膜微金字塔结构阵列整体的形貌一致性较高，检测20个不同位置的结构单元的平均尺寸，得出制备结果与设计结果的差异对比，见表5.其中，微金字塔结构的底宽尺寸分别为3.8μm、5μm、7.5μm和9.3μm，结构之间出现了宽度为0.1μm的间隙；微结构的平均高度为1.7μm、2.2μm、3.3μm和4.1μm.结构的深宽比由设计的1∶2，变为最终的1∶2.2、1∶2.3、1∶2.3和1∶2.3，这是由于纳米压印3%左右的交联收缩率以及感耦合等离子体刻蚀过程中掩模层与SiNx薄膜1.25∶1的刻蚀比共同导致的结果.微金字塔结构单元尺寸的深宽比存在一定程度的降低，结构的塔尖保持了锐利的尖端形貌.