《表1 纳米划刻实验参数》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《基于纳米划刻实验的单晶锗切削机理》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

本实验采用合肥科晶公司生产的高纯度单晶锗切片，通过单面化学抛光法加工制备，其表面粗糙度（RMS）小于50 nm，选取抛光后的（100）晶面作为实验面，工件尺寸为10 mm×10 mm×0.5 mm。纳米划刻实验在Nano indenter G200纳米压痕仪上进行。选用正三棱锥形Berkovich金刚石压头，压头尖端曲率半径为50 nm，其几何形状可以在较小的范围内保持自相关，因此适用于本实验。对于单晶锗工件进行划刻实验，选取的实验参数如表1所示。