《表1 不同Ar气流量及压强的实验工艺参数》

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《7A04铝合金表面制备Cr/CrN复合膜的研究》

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制膜设备为沈阳科友真空技术有限公司生产的等离子体增强非平衡磁控溅射镀膜设备，由电源系统、控制系统、真空系统和冷却系统4部分组成。电源系统由靶材提供的脉冲电源和基体提供的脉冲或直流电源组成。真空系统由旋转机械泵和分子泵组成。机械泵一般作为真空传输泵，而分子泵一般起到抽真空的目的。真空室内四周分别设有一个矩形靶，靶材尺寸为550 mm×170 mm×12.5 mm。由于添加了灯丝，会产生热丝电流也就是放电电流，所以提高了离化率，增加了等离子体密度，提高溅射粒子与靶材的碰撞概率，提高了沉积速率。实验中的工作气体为纯度99.99%的氩气和氮气，腔体压强设置为0.4～1.2 Pa，基体偏压为-50 V，靶电流为5 A，溅射时间为6 h。其工艺参数详见表1。FAr为Ar流量，FN2为N2流量，FAr/FN2为通量比。