《表5 TNBox-Benhnken Design响应面试验回归模型方差分析》

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《基于响应面法的推流式耦合工艺深度脱氮优化研究》

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在模型（2）中，A、B、C、D对TN去除率的影响达0.1%显著水平；A2和C2对TN去除率的影响达1%显著水平。回归模型的显著性证明，该回归方程可以很好地描述各因素与响应值之间的关系，可以用该模型对试验结果进行分析和预测，确定推流式耦合法去除TN的最佳工艺条件。TN回归模型的显著性检验结果如表5所示。