《表1 氧化锆陶瓷抛光参数Tab.1 Polishing processparameters ofzirconia ceramics》

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《化学机械抛光工艺参数对氧化锆陶瓷抛光速率的影响》

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抛光实验各参数如表1所示。每做完一组抛光实验，使用4英寸金刚石修复盘对抛光垫、机台等进行5 min的清洗修复实验。抛光实验结束后，对氧化锆陶瓷片进行超声清洗，然后用氮气吹干表面。本次实验中，抛光前后质量变化用电子天平进行测量。抛光速率根据公式（1）进行计算。