《表1 实验参数及条件表：氧化锆陶瓷球磁流变抛光工艺试验研究》

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《氧化锆陶瓷球磁流变抛光工艺试验研究》

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在陶瓷球磁流变抛光中，上、下抛光盘的转速，上盘偏性距会直接影响陶瓷球的运动轨迹、密度和包络均匀性，抛光间隙会影响陶瓷球的抛光压力，从而影响陶瓷球的抛光质量和效率。为了探究抛光工艺参数对陶瓷球抛光效果的影响，采用单因素实验对氧化锆陶瓷球进行了抛光实验，实验参数及条件如表1所示。抛光的陶瓷球为直径9.525 mm的氧化锆陶瓷球，原始球体的表面粗糙度为Ra100～120 nm，球形误差为ΔSph0.3～0.4μm。磁流变抛光液的主要成分为84%的离子水和16%的羰基铁粉。抛光前，为保证抛光效果，将磁流变抛光液经过30 min以上的超声震动分散，使得磨粒与羰基铁粉均匀稳定地分布在磁流变抛光液中，防止磨粒团聚，造成大颗粒对球坯表面划伤和抛光缺陷。