《表1 等效电路元器件值：硫脲对Sn-Ni合金电沉积行为的影响》

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《硫脲对Sn-Ni合金电沉积行为的影响》

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由Zsimpwin软件对图6交流阻抗谱进行拟合，采用的等效电路如图7所示。表1为等效电路各元器件拟合参数值。由表1可知，随着硫脲浓度的增大，电荷转移电阻Rct值由794.7Ω·cm2减小至645.7Ω·cm2，表明电子转移过程阻力降低，有利于金属离子的还原。吸附电阻Rad由1246Ω·cm2减小至661.9Ω·cm2，表明增大硫脲浓度有利于金属离子在电极表面的吸附，进而有利于金属离子的还原。