《表2 图3中区域3和区域4的能谱分析结果》

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《N5基体与NiCrAlY粘结层界面元素互扩散行为研究》

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结合文献报道[10-12]，选取1000℃，200 h恒温氧化后的试样为研究对象，对其进行EDS区域扫描分析（图3e中Area 3和Area 4区域）以及X射线衍射分析（图4），研究互扩散反应区和二次反应区的物相结构。由EDS分析结果可知（见表2），N5基体与NiCrAlY粘结层界面处的二次反应区主要由Ni、Cr、Al、Co、Mo、Ta、W和Re组成，互扩散反应区主要由Ni、Cr、Al和Co组成，并且通过计算可知二次反应区中各元素的原子分数:Al 12.92%，Cr 8.56%，Co 8.95%，Ni54.07%，Mo 2.59%，Ta 1.46%，W 4.35%，由此可知Ni元素和Al元素的原子比约为1:4，结合Ni-Al相图[13]及Walston等人的研究[14，15]，可判断此时二次反应区的组织以γ′-Ni3Al相为主，说明此处发生了γ→γ′的相变。同理可知，互扩散反应区中Ni元素和Al元素的原子比约为1:1.4，结合Ni-Al相图[13]及文献报道[14，15]可知，此处的Ni元素和Al元素主要以β-NiAl相存在，同时还可以发现，在互扩散反应区中的Cr元素的含量高达59.1%，说明互扩散反应区中还可能存在α-Cr相。除此之外，将二次反应区中各元素的含量（表2中Area 3）与N5基体中各元素含量（表1中Area 1）对比，还发现二次反应区中难熔金属的含量显著增加（尤其是W元素和Re元素），这说明在二次反应区中析出的TCP有害相的成分是以难熔金属为主。