《表1 光刻、刻蚀分支“IPC主分类号前5”意义下的出现次数排名》

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《集成电路（装备）制造业高质量发展策略分析》

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根据文献10中的统计方法，统计不同技术分支在各个年代中各主要IPC分类号下专利申请量进入排名前5的公司11，对其在文献量最多的50个IPC主分类号下出现的次数进行排名。表1、表2统计了光刻、刻蚀、薄膜、掺杂氧化和封测5个分支在2000年代和2010年代出现次数排名的前10位的信息，并对不同年代的两组数据进行相关性标注，此处具体仅对相同申请人进行标注，而未对排序及“出现次数”数据进行计算。