《表1 未修饰PVA和C-PMMA修饰的PVA绝缘层的表面和电学性能及相关的P3HT OFETs参数Tab.1 Surface and electrical properties of the bar
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《交联PMMA修饰的PVA绝缘层对P3HT有机场效应晶体管性能的影响》
表中性能参数由15个器件统计得出
由上述两个公式计算出器件的相关性能参数,列于表1。导电沟道位于半导体层内靠近半导体层/绝缘层界面处。与PVA相比,C-PMMA的表面极性较弱,对在沟道内传输的载流子阻碍较小[15]。而且PVA中羟基是一种亲水基团,容易吸附空气中的水分子,在绝缘层表面形成陷阱,阻碍载流子输运。C-PMMA修饰PVA后,表面羟基数目大大减小,减少了由于吸水而形成的陷阱[7]。以上两种原因使得C-PMMA修饰的PVA器件的性能变好:栅压调控增强,饱和区更加清晰,迁移率变大。栅极施加电压后,产生的感生电荷填充陷阱后形成导电沟道,所以C-PM-MA修饰PVA的器件的阈值电压显著降低,约为0.4 V。同时,C-PMMA修饰PVA后,关态电流降低了近2个数量级,导致开关比变大,达到102数量级。
图表编号 | XD0017636100 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.11.01 |
作者 | 张华野、张帆、张猛、娄志东、滕枫 |
绘制单位 | 北京交通大学光电子技术研究所发光与光信息教育部重点实验室、北京交通大学光电子技术研究所发光与光信息教育部重点实验室、北京交通大学光电子技术研究所发光与光信息教育部重点实验室、北京交通大学光电子技术研究所发光与光信息教育部重点实验室、北京交通大学光电子技术研究所发光与光信息教育部重点实验室 |
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