《表2 优化后工艺的稳定性》
针对单一固定总刻蚀时间(以6 min为例)考察刻蚀工艺的批次间一致性,结果如表2所示,4批次之间刻蚀速率稳定,刻蚀均匀性均在5%以内,具备应用基础。
图表编号 | XD00175987700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.04.25 |
作者 | 孔欣、陈勇波、董若岩、刘安、汪昌思 |
绘制单位 | 中国电子科技集团公司第二十九研究所、中国电子科技集团公司第二十九研究所、成都海威华芯科技有限公司、成都海威华芯科技有限公司、中国电子科技集团公司第二十九研究所 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |