《表3 只拉偏基区注入浓度情况分析表》
(3) 拉偏基区注入剂量试验,在不改变其他条件的情况下改变基区注入剂量,条件如表3所示。
图表编号 | XD0017213200 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.05.20 |
作者 | 余庆 |
绘制单位 | 华越微电子有限公司 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
(3) 拉偏基区注入剂量试验,在不改变其他条件的情况下改变基区注入剂量,条件如表3所示。
图表编号 | XD0017213200 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.05.20 |
作者 | 余庆 |
绘制单位 | 华越微电子有限公司 |
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