《表1 三种方法测量的铜膜膜厚结果》

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《不同方法测量铜薄膜厚度的比较》

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由于台阶仪测量精确快速，测量得到的形状膜厚可以视作膜厚的参考指标。随着样品序号的增大，三种方法测量得到的膜厚结果均逐渐减小，铜薄膜厚度从1 200 nm减小到100 nm附近。对于电学法，当铜膜形状膜厚大于400 nm时，电学膜厚与形状膜厚基本相符，而随着膜厚的进一步降低，其与物性膜厚的差值逐渐变大，可信度降低，说明电学法不适用测量较薄铜膜，即存在最小可测铜膜厚度。对于光学法，前四号样品测量结果接近，说明其无法区分厚度较大的薄膜，而当薄膜厚度进一步降低时，光学膜厚发生变化，与形状膜厚之间的误差逐渐减小，说明光学法适用于厚度较小的薄膜，有最大可测铜膜厚度。