《表2 两种显影工艺条件对比》

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《新型复合显影金属剥离工艺的研究》

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样品制作使用3英寸Ga As衬底，在自动涂胶显影设备分别涂敷0.7um底胶和1.2um UV顶胶，为防止胶膜脱落加入了预烘、HMDS等常规工艺步骤；I线步进投影曝光机完成曝光；显影使用2.38%浓度TMAH显影液，自动涂胶显影设备显影，常规工艺和复合显影工艺条件对比见表2。