《表3 多离子中汞离子清除的动力学拟合参数》

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《基于辐射接枝基底的宏尺寸UiO-66-S膜制备及其对代血浆中汞离子的清除》

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我们进一步对多离子条件下UiO-66-S膜对汞离子的清除动力学进行了研究，其在代血浆体系的结果如图8(c）、（d）所示。可以发现100 min时UiO-66-S膜对汞离子的吸附进入平衡阶段（达到53.71%），其清除过程符合伪二阶动力学模型，说明这一过程是由物理吸附和化学吸附共同决定的，其中以化学吸附为主。对比代血浆和纯水体系的动力学拟合参数，其吸附速率常数（k2）、平衡吸附速率（qe）和初始吸附速率（h）的变化见表3。可以发现在模拟的复杂体系下（高黏度、多离子等），UiO-66-S膜对汞离子保持有6.44 mg/g的平衡吸附量。而在纯水体系中，UiO-66-S膜对汞的平衡吸附量虽然是代血浆中的2倍左右，但是其k2和h却都低于代血浆体系，说明溶液体系黏度的增加虽然降低了平衡吸附量，但是却加速了吸附过程，并且增加的h和降低的平衡吸附量使得平均速率常数的增加更加显著，这对于重金属离子的快速清除是有利的。