《表4 深度除水前后HCl电子气体的金属离子含量》
表4显示深度除水前后5N HCl电子气体中金属离子含量的分析结果。显然,HCl电子气体经酰氯化活性炭深度除水后,除了极个别金属离子,其它金属离子含量均趋于降低。完成HCl电子气体深度除水后,由于活性炭表面的羧基官能团,可与SOCl2反应而重新酰氯化,活性炭材料对HCl电子气体的高效、选择性深度除水能力再生成为可能。此外,将石墨烯、碳纳米管等新型碳材料用于气体、有机物和金属离子等的吸附、富集与脱除已有报道[64-65]。新型碳材料可进行与活性炭相同的酰氯化表面改性[66-71],上述结果为拓展新型碳材料的应用至腐蚀性HCl电子气体的深度除水提供了参考和依据。
图表编号 | XD00150608500 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.04.28 |
作者 | 叶向荣、刘华平、黄明星、张广第、李军、陈刚、张坚文 |
绘制单位 | 浙江博瑞电子科技有限公司、浙江师范大学先进催化材料教育部重点实验室、衢州氟硅技术研究院、衢州氟硅技术研究院、浙江博瑞电子科技有限公司、浙江博瑞电子科技有限公司、浙江博瑞电子科技有限公司、衢州氟硅技术研究院 |
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