《表2 铜在不同甘氨酸质量分数下的腐蚀电位和腐蚀电流密度》

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《硅通孔化学机械平坦化中铜去除的电化学与选择性研究》

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在H2O2 3%、pH=10的条件下，铜电极在不同甘氨酸质量分数的溶液中的动电位极化曲线如图3所示，相应的腐蚀电位和腐蚀电流密度列于表2。随着甘氨酸质量分数的增大，腐蚀电位负移，腐蚀电流密度增加，说明铜电极的腐蚀随着甘氨酸质量分数升高而加剧。