《表3 氯化钠添加量对槽电压及离子去除率的影响》

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《含氰电镀废液的电化学氧化预处理研究》

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文献资料显示Cl-的加入量为CN-浓度的3～5倍时能有效去除CN-[10]，因此实验选择Cl-的加入量为CN-的2、3、4、5倍。其他实验条件保持不变，槽电压随NaCl加入量的变化如表3所示，可以看出随着氯化钠加入量的增大，槽电压从5.5 V降至5.3 V。电解时间为4 h时，含氰废水中离子的去除率随NaCl加入量的变化列于表3。不同氯化钠加入量获得的CN-去除率差别不大，加入量2倍时为97.5%，5倍时为99.0%。对于金属离子，随着氯化钠加入量变大，金属离子去除率呈上升趋势。其中，Zn2+去除率升高幅度较小，仅从2倍时的93.7%升高到5倍时的96.3%。而Cu2+去除率升高幅度较大，可从2倍时的84.4%升高到5倍时的94.4%。含氰废水预处理的主要目的是去除废液中的CN-，且电解过程也不宜加入过多的氯化钠，因此含氰废水电解过程选择添加2倍于CN-浓度的氯化钠。