《表1 含硅非晶碳膜制备参数》
本实验采用的基底为钛合金板,大小为20 mm×20 mm×1 mm,为提高薄膜和基底间的结合力,将基底表面用400#—2000#碳化硅砂纸分别打磨至光滑,随后在丙酮和乙醇溶液中分别超声清洗10 min,以去除表面氧化物和有机物,大气下干燥后,放置真空腔内,之后将腔体气压抽至2×10-3 Pa以下,具体镀膜参数如表1所示。
图表编号 | XD00145562000 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.06.20 |
作者 | 牟志星、张兴凯、高凯雄、张斌、王兆龙、贾倩、张俊彦 |
绘制单位 | 中国科学院材料磨损与防护重点实验室、中国科学院材料磨损与防护重点实验室、中国科学院大学材料与光电研究中心、中国科学院材料磨损与防护重点实验室、中国科学院大学材料与光电研究中心、中国科学院材料磨损与防护重点实验室、中国科学院大学材料与光电研究中心、中国科学院材料磨损与防护重点实验室、中国科学院材料磨损与防护重点实验室、中国科学院大学材料与光电研究中心、中国科学院材料磨损与防护重点实验室、中国科学院大学材料与光电研究中心 |
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