《表3 不同纳米线溶剂比例对偏心旋涂取向效果的影响》

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《偏振发光的钙钛矿纳米线薄膜》

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溶剂工程也是偏振发光取向中常用的调控手段，考虑到在偏心旋涂中，纳米线受到溶液挥发时的剪切力而取向，取向时间的长短对取向效果也会造成一定影响。取向时间的长短和纳米线溶剂的挥发时间相关，而通常来说溶剂挥发时间和溶剂自身的沸点有关，己烷为低沸点溶剂，沸点为69℃，甲苯为高沸点溶剂，沸点为110℃。在这里使用不同的己烷和甲苯溶液混合比例，利用混合溶剂中不同的溶剂组分来调节偏心旋涂过程中纳米线溶剂的挥发速度，从而调节钙钛矿纳米线薄膜的荧光偏振度。如表3所示，使用的钙钛矿纳米线分散液混合溶剂比例为V己烷∶V甲苯=3∶1的样品的薄膜荧光偏振度为0.32，而随着混合溶剂中甲苯溶剂比例的升高，样品的薄膜荧光偏振度也逐渐升高。可以看出，在混合溶剂中，高沸点甲苯溶剂的含量越多，越有利于钙钛矿纳米线的取向。这也证实了作者的推论。