《表2 不同基底对于偏心旋涂取向效果的影响》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《偏振发光的钙钛矿纳米线薄膜》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

对于偏心旋涂取向技术，能影响到最终的纳米线薄膜取向效果的因素还有很多，薄膜基片的表面亲/疏水性是其中之一。在偏心旋涂的过程中，溶剂随转速的增加迅速挥发，而在溶剂挥发方向，也就是离心力的方向，溶剂挥发产生的剪切力使得钙钛矿纳米线沿离心力方向有序排列，在这个过程中，纳米线与基片的接触性会对最终的取向效果产生影响。选取多种不同的基底表面，它们具有不同的接触角，如表2和图4所示。分别采用聚苯乙烯（PS）基底、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）基底、玻璃基底、ITO基底和PEDOT∶PSS基底，来检验偏心旋涂取向法中，旋涂基底的表面接触性对纳米线取向效果的影响。