《表2 HCl分子吸附于Cu掺杂金红石相TiO2、SnO2、GeO2后的Mulliken电荷布局分布》
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《Cu掺杂的金红石相金属氧化物半导体吸附HCl气体的光催化性能研究》
为了研究Cu掺杂后HCl分子的微观吸附机理，分析了理想HCl分子和三种体系的Mulliken电荷布局分布，如表2所示。
| 图表编号 | XD00140703500 严禁用于非法目的 |
|---|---|
| 绘制时间 | 2020.02.10 |
| 作者 | 陈杨 |
| 绘制单位 | 重庆师范大学 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
