《表3 纯和掺杂γ-Ti Al体系的Mulliken电荷布居数Table 3 Mulliken population of pure and dopedγ-Ti Al systems》
提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
本系列图表出处文件名:随高清版一同展现
《La和Zr双掺杂γ-TiAl基合金延性与电子性质的第一性原理研究》
为了研究γ-Ti Al基合金中Ti,Al原子间的电荷转移情况,我们计算了典型体系S0,S51,S52,S63,S64的Mulliken电荷布居数,表3列出的是平均值。对比可知,在双掺杂体系S51,S52,S63,S64中,由于La和Zr原子的替代掺杂,使Ti 4s→3d,Al 3s→3p的电荷转移量减少。这会弱化掺杂体系中p-d轨道杂化作用,使形成金属键的自由电子数量较纯γ-Ti Al体系有所增加,从而使La和Zr替代掺杂γ-Ti Al基合金体系的延性有所改善。
图表编号 | XD0011231200 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2018.04.01 |
作者 | 宋庆功、赵俊普、顾威风、蒋清杰、杨宝宝、郭艳蕊、胡雪兰 |
绘制单位 | 中国民航大学理学院低维材料与技术研究所、中国民航大学中欧航空工程师学院、中国民航大学理学院低维材料与技术研究所、中国民航大学理学院低维材料与技术研究所、中国民航大学中欧航空工程师学院、中国民航大学理学院低维材料与技术研究所、中国民航大学理学院低维材料与技术研究所、中国民航大学中欧航空工程师学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |