《表1 HCl吸附于Cu掺杂金红石相TiO2、SnO2、GeO2后的吸附距离和吸附能》

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《Cu掺杂的金红石相金属氧化物半导体吸附HCl气体的光催化性能研究》

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式中：为Cu掺杂的含氧空位金红石相TiO2、SnO2或GeO2超晶胞能量；为HCl分子能量；为HCl分子吸附于Cu掺杂的含氧空位金红石相TiO2、SnO2或GeO2表面后体系的总能量。HCl分子吸附于Cu摻杂金红石相TiO2、SnO2、GeO2后的吸附距离和吸附能如表1所示。