《表2 不同排胶工艺下的分层开裂情况》
选取NPO材料、MLCC芯片,选择几种不同的工艺进行排胶,排胶后芯片的质量减少率,排胶时间、分层开裂情况见表2。
图表编号 | XD0013173600 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.07.01 |
作者 | 侯玉森 |
绘制单位 | 天津三星电机有限公司 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
选取NPO材料、MLCC芯片,选择几种不同的工艺进行排胶,排胶后芯片的质量减少率,排胶时间、分层开裂情况见表2。
图表编号 | XD0013173600 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.07.01 |
作者 | 侯玉森 |
绘制单位 | 天津三星电机有限公司 |
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