《表5 正交实验分析处理结果Table 5 Analysis and processed results of orthogonal test》

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《单晶硅红外透镜的超精密磨削工艺参数优化》

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表4的分析结果，如表5所示。其中，Ki为相应因素i水平所对应的指标测量结果的平均值，由其大小可判断相应因素的最优水平。对于单晶硅表面粗糙度Ra，A3=7μm、B1=1 mm/min、C4=470 r/min、D4=7 052r/min、光磨2次分别为各因素的最优水平；对于单晶硅面形精度PV，A4=10μm、B4=9 mm/min、C4=470 r/min、D1=4 030 r/min、光磨3次分别为各因素的最优水平。i水平对应平均值Ki中的最大值与最小值之差为极差，可反应实验因素水平变动时指标的变动幅度。极差越大，说明该因素对指标的影响越大，因此也就越重要。由表5可以得出，对于指标表面粗糙度Ra，因素的主次关系为B>A>D>E>C；而对于面形精度PV，因素的主次关系为B>A>D>E>C。