《表1 传统CMP与精细雾化CMP的抛光效果对比》

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《精细雾化抛光氮化硅陶瓷的抛光液配制参数优化》

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由以上实验得出，当抛光液中SiO2的质量分数为5wt%，氧化剂H2O2的质量分数为1wt%，抛光液的pH值为8时，对氮化硅陶瓷进行超声精细雾化抛光效果最好。在除抛光液流量外的相同抛光参数下，传统CMP与精细雾化CMP的抛光效果对比如表1所示。图5为抛光前后氮化硅陶瓷的表面形貌图。