《表3 浸泡1 h EIS谱的拟合值》

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《固溶处理对Al-4.2Zn-1.3Mg合金耐腐蚀性能的影响》

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图3为经不同固溶处理的Al-4.2Zn-1.3Mg合金在3.5%Na Cl溶液全浸腐蚀1 h后的电化学阻抗谱。在Nyquist谱中，5种试样在高频区和中频区均存在1个较大的容抗弧，低频区未出现Warburg阻抗，证明该试验环境下铝合金的腐蚀不受离子扩散控制而是受电子转移电荷传递控制。研究表明[11，12]，铝合金在Na Cl溶液中发生腐蚀时，合金表面的氧化膜最先发生腐蚀，这时在电化学阻抗谱上会出现高频容抗弧。容抗弧的半径越大，说明合金的抗腐蚀性能越好。从图中可以观察到经DST3和DST4处理后的容抗弧半径较大，则其腐蚀速率较低，结果与极化曲线测试结果相似。在Bode谱中，5种试样的相位角曲线均为单峰，说明只存在1个时间常数。根据该电路体系特点，使用ZSimpWin软件对EIS谱进行拟合，等效电路见图4。其中Rs为溶液电阻，C1为合金表面双电层电容，n为弥散效应指数，Rt为电荷转移电阻。拟合结果见表3。可见，电荷转移电阻Rt由大到小的顺序依次为DST4>DST3>DST1>SST1>DST2。