《表4 浸泡168 h后的电化学阻抗谱的拟合值》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《固溶处理对Al-4.2Zn-1.3Mg合金耐腐蚀性能的影响》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

图5为经不同固溶处理的Al-4.2Zn-1.3Mg合金在3.5%Na Cl溶液全浸腐蚀168 h后的EIS谱。可见，随着腐蚀时间的增加，中高频区的容抗弧减小，可能是由于合金表面形成的腐蚀产物发生脱落，合金表面裸露，致使Cl-腐蚀侵蚀其表面，阳极溶解速度加快，从而导致电荷转移电阻变小，腐蚀速率加快。低频区出现了Warburg阻抗，说明该腐蚀反应受溶液扩散控制[13]。从Bode谱中可以看出，在此阶段5种试样表现均为2个时间常数，拟合的等效电路图及结果见图6和表4，其中Rs，C1，Rt，n的意义同上，Rp为点蚀坑电阻，C2为点蚀坑电容，W为Warburg阻抗。可见，Rt与浸泡初期相比明显减少。