《表1 激光气体氮化工艺参数》

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《半导体激光热输入对渗氮层结构和性能的影响》

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采用的激光设备为FL-DLight3-1500型半导体激光器，最大输出功率为1500 W，输出波长为（976±10)nm。选用工业纯氮气（>99.99%）作为渗氮和保护气体，通过自行设计的环隙异轴铜喷嘴将其输送至待渗氮区域。在氮气流量为25 L/min、喷嘴至样品的距离为4 mm、离焦量为+10 mm（零离焦为275 mm）、光斑尺寸为4 mm×2 mm的条件下，研究激光功率与扫描速度的耦合作用对渗氮效果的影响，具体参数见表1。