《表2 机插适应性对比：水稻工厂化育秧瘪谷基质试验示范应用技术》

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《水稻工厂化育秧瘪谷基质试验示范应用技术》

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注:表中数字后面大小写字母分别表示1%、5%水平下的差异显著性。

结果表明:相同的面积，总蔸数2017年处理A与处理B间差异不显著，处理A、B与处理C间差异均达到显著性水平；2018年A、B、C 3处理差异不显著；缺蔸数2017年处理A与处理B差异不显著，处理A、B与处理C间的差异均达到极显著水平，2018年处理B与处理C差异达到显著性水平，处理A与处理B，处理A处理C差异不显著；浮苗数2017年处理A与处理B、处理C差异达到极显著水平，处理B与处理C差异达到显著性水平，2018年A、B、C 3处理差异不显著；伤苗率2017年A、B、C3处理差异均达到极显著性水平，2018年处理A与处理B、C差异达到显著性水平，处理B与处理C之间差异不显著；漏苗率2017年A、B、C 3处理之间差异达到极显著性水平，2018年处理B与处理C差异达到极显著性水平，处理A与处理B、处理A与处理C差异不显著。表明:处理A、处理B机插适应性比处理C好，处理A与处理B机插适应性相接近。详见表2。