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第一章概述1

1-1光刻技术概况1

1-2 光刻工艺过程3

第二章光致抗蚀剂6

2-1光致抗蚀剂的性能6

2-2光致抗蚀剂的配制9

2-3光致抗蚀剂的种类11

第三章硅片表面清洁处理14

3-1 硅片表面清洁处理的目的14

3-2硅片表面清洁处理的方法15

第四章涂敷感光胶18

4-1涂胶的方法和设备18

4-2改进涂胶效果的几种措施22

第五章抗蚀剂膜的干燥（前烘）25

第六章曝光27

6-1曝光工艺过程27

6-2光致抗蚀剂的分辨率29

6-3影响分辨率的几种因素30

第七章显影35

7-1显影的要求35

7-2显影对光刻质量的影响36

第八章抗蚀剂膜的坚固（坚膜）39

第九章腐蚀40

9-1腐蚀的作用40

9-2腐蚀液的选择41

9-3二氧化硅的腐蚀44

9-4硅的腐蚀50

9-5 铝等金属的腐蚀51

第十章抗蚀剂膜的去除（去胶）54

第十一章光刻中常见的弊病及防止改进的措施55

第十二章光刻技术的发展动态63

12-1大面积光刻63

12-2明室操作65

12-3投影光刻65

12-4 电子束光刻和离子束掺杂68