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目录1

第一章 光致抗蚀剂简介1

一、光刻工艺与光致抗蚀剂1

二、光致抗蚀剂的种类5

第二章 光致抗蚀剂的类型、感光机理和感光度8

一、光致抗蚀剂的类型及其感光机理8

二、光致抗蚀剂的感光度47

第三章 光刻工艺62

一、粘附62

二、光刻胶的光谱特性与最佳曝光条件71

三、涂胶与涂层厚度86

四、前烘焙与后烘焙89

五、腐蚀92

六、去胶101

七、清洁107

第四章 几种光致抗蚀剂的制备115

一、聚乙烯醇肉桂酸酯光致抗蚀剂115

二、PCDA-053光致抗蚀剂120

三、环化橡胶型光致抗蚀剂129

四、聚酯型光致抗蚀剂141

五、701正性光致抗蚀剂153

第五章 光致抗蚀剂的某些新发展与展望161

一、用于电子束曝光的光致抗蚀剂161

二、由聚合物涂层曝光直接腐蚀薄膜166

三、耐高温的光致抗蚀剂168

四、由表面光聚合形成光致抗蚀剂169

五、由单体直接聚合成感光性树脂171

六、光致抗蚀剂“胶卷”174

七、光敏化电荷转移聚合175

八、感光性树脂增感的研究176