《表1 典型的铜离子螯合剂结构式[22-23]》

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《双氧水系铜刻蚀液各向异性刻蚀机理和方法研究进展》

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铜离子在刻蚀过程中的不断溶出将会导致其浓度对铜刻蚀速率的影响不断加强，因此研究者们根据铜离子的配位特性，着重筛选了能够快速稳定铜离子，在铜刻蚀液酸性环境下形成稳定化合物的螯合剂。其主要类型为氨基酸类[6-7，28]，通常所用的包括甘氨酸、丙氨酸、亚氨基二乙酸、次氮基三乙酸、谷氨酸、L-赖氨酸、乙二胺四乙酸二钠（EDTA-2Na）等（典型的三种应用物质结构图如表1所示）。该类化合物的稳定机理主要是通过羧基与铜离子形成相应的配合产物，稳定铜离子在溶液中的状态，不进行氧化反应或催化双氧水分解，从而延长刻蚀液的稳定刻蚀期，使其使用寿命得到延长。然而该类化合物仍然存在应用局限性，主要问题是在pH<7的情况下，生成的铜螯合物的稳定性不佳或形成的铜螯合物在铜刻蚀液中的溶解性不佳，容易形成晶体从溶液中析出，从而在表面形成残留，影响产品质量。因此，该类添加剂的选择和用量依然有待进一步探究。