《表3 溶液回流后TSB晶体的生长参数》
表4列出了未回流和不同回流时间溶液所生长晶体的(100)晶面摇摆曲线的半高宽(FWHM)数值。从表4可以看出,回流时间增加,获得晶体(100)晶面的FWHM值呈减小趋势。可见回流热处理不但有利于尽快使溶液达到平衡状态而提高其稳定性,还有利于改善所生长晶体的完整性。但考虑到由表2反映的回流12 h溶液杂质增多以及表4中回流8 h和回流12 h溶液获得晶体(100)晶面的FWHM值相差不大,再结合表3和图5的结果综合分析,确定溶液回流热处理8 h为宜。
图表编号 | XD0088667200 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.10.01 |
作者 | 汤舟娅、常新安、陈学安、肖卫强、张明荣 |
绘制单位 | 北京工业大学材料科学与工程学院、北京工业大学材料科学与工程学院、北京工业大学材料科学与工程学院、北京工业大学固体微结构与性能研究所、北京玻璃研究院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |